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【普乐斯】真空等离子清洗设备 半导体等离子表面处理机  PM/R-80LN
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【普乐斯】真空等离子清洗设备 半导体等离子表面处理机 PM/R-80LN

品牌:普乐斯
名称:真空等离子清洗设备 半导体等离子表面处理机
型号: PM/R-80LN
用途:适合于材料表面清洁、活化



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产品特点

v触摸屏操作界面
v数字及图标多重工艺参数实时显示
v三色灯异常报警功能
v自动/手动操作模式切换
v可存储多套工艺配方
v远程操控,数据砸导出(可选)
v模块多样化选择,多层托架可选,处理量大
v外观设计专利 201930499619.5
v软件著作权 2019SR0011225
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产品参数

型号 PM-80LN PR-80LN
控制系统 控制方式 全自动控制(自动/手动切换)
PLC(标配)/PC(可选)
操作系统 Windows 10
触摸屏 7寸
整机规格 尺寸 W850×D1100×H1700mm
腔体 尺寸 W450×D400×H450mm
材质 铝合金(标配)/不锈钢(可选)
电极 尺寸 W440×D317mm
层数 1-8层,可选
托架 材质 铝合金(标配)/不锈钢(可选)
层数 1层
真空计 皮拉尼式真空计 1个
流量计 MFC质量流量控制器 2个;Ar、N2、O2(可选)
真空泵 机械油式旋片泵 1套
发生器 中频/射频 40KHz,0~1000W 13.56MHz,0~500W
额定功率 整机峰值功率 4KW
机台供电 三相五线式 AC-380V
选购品 干式泵、气浴电极(打孔)、托架、接枝气化仪、防腐密封、腔体加热、加热盘、温度传感器、H2安全阀、慢速泄气阀、慢速抽气阀、钢瓶减压阀、水冷电极、冰水机、模温机、非标法兰、陶瓷紧固件

注:以上参数仅供参考,本公司可能对相关产品参数进行调整,如有变动,恕不再另行通知。若有不明处,欢迎来电询问。
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工作原理

在真空状态下,压力越来越小,分子间间距越来越大,分子间力越来越小,等离子清洗设备利用高频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢、四氟化碳等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的等离子体,然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质,然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去,从而达到表面清洁、活化等目的。如图所示:
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应用领域

适合于材料表面清洁、活化
解决材料粘结不牢固和粘结不良的问题
适用于制作车间的批量生产以及制造

快速反应,专业配合,精心打造服务生态链
1年质保,终身维护,提供配套服务
承诺到达现场的时限:昆山 4小时,苏州 8小时,江浙沪 24小时,其他区域 48小时
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荣誉资质

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